CMP一体机产品系统

我要开发同款
脚踏实地2025年06月26日
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项目文件
rar格式 7.08 MB
¥1000.00

技术信息

语言技术
C#SQLServer自动化测试
参考价格
1000

作品详情

功能介绍

1、本方案是面向半导体行业的抛光机和清洗机,将8寸和10寸晶圆进行抛光和清洗结合的方式进行一体控制。
2、市场的抛光机和清洗机是分开的两种机器,这种一体机的方式在抛光完成后,立即进行清洗,一次性完成工艺流程。
3、本方案与两个三菱Q系列的PLC进行实时通讯,同时控制机械臂的搬运进行上料和下料,将晶圆放入料盒中。

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